本文標(biāo)題："近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡的成像原理及適用范圍"

發(fā)布者：YIYI ------ 分類(lèi): 技術(shù)文章 ------ 人瀏覽過(guò) -----時(shí)間：2014-11-1 17:27:34

近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡的成像原理及適用范圍

近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡主要是采用非輻射場(chǎng)的探測(cè)跟成像原理。不僅可以打破一

般光學(xué)顯微鏡所受到的衍射極限、近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡主要是采用亞波長(zhǎng)尺度

的探針在距離試樣表面幾個(gè)納米的近場(chǎng)范圍進(jìn)行掃描成像的技術(shù)、在近場(chǎng)

觀測(cè)之內(nèi)、在試樣上面進(jìn)行掃描的時(shí)候可以獲得分辨率大于衍射的形象外

貿(mào)像和光學(xué)像的顯微鏡。

近場(chǎng)光學(xué)顯微鏡主要適用于超高光學(xué)分辨下進(jìn)行納米尺度光學(xué)成像跟納米

尺度光譜研究

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